Espectrômetro de Emissão Óptica por Plasma Indutivamente Acoplado ICP 8800

O ICP 8800 é a solução avançada em Espectrometria de Emissão Óptica por Plasma Indutivamente Acoplado (ICP-OES) desenvolvida para laboratórios de análise química, controle ambiental, metalurgia, mineração e pesquisa que exigem altíssima precisão, sensibilidade e alta produtividade na detecção multielementar.

O que faz a Espectrometria de Emissão Óptica por Plasma (ICP-OES)?

A tecnologia ICP-OES é o método consagrado para a determinação quantitativa e simultânea de múltiplos elementos químicos em amostras líquidas e sólidas solubilizadas.

O equipamento gera um plasma de argônio a altíssimas temperaturas (entre 6000K e 10000K) por meio de uma fonte de radiofrequência sólida. A amostra nebulizada é introduzida no plasma, onde é dessolvatada, atomizada e ionizada. Os átomos e íons excitados emitem radiação luminosa em comprimentos de onda característicos para cada elemento. Ao capturar e processar essa luz com um sistema óptico de altíssima resolução, o espectrômetro determina instantaneamente a concentração dos elementos presentes na amostra, desde níveis de traços (ppb/ppm) até porcentagens elevadas.

Destaques do ICP 8800

Análise Multielementar Extensa: Capacidade de testar até 70 elementos diferentes com varredura rápida de 5 a 10 elementos por minuto.

Sistema Óptico de Ultra Alta Resolução: Equipado com grade de difração gravada por íons de até 4320 linhas/mm, atingindo uma resolução óptica de até 0,005 nm. Isso elimina interferências espectrais entre os elementos analisados.

Fonte RF de Estado Sólido Segura e Estável: Fonte de radiofrequência sólida ajustável de 500W a 1600W com eficiência superior a 65% e proteção contra sobrecarga, falhas de água e gás.

Controle de Temperatura de Alta Precisão: Todo o sistema óptico é protegido por um controle térmico constante com precisão de 0,1 °C, garantindo excelente estabilidade espectral sem necessidade de ajustes contínuos.

Detector Fotomultiplicador (PMT) Sensível: Deteção de alta sensibilidade sem necessidade de refrigeração ou sopro de gás de arraste, reduzindo o desgaste e o custo de manutenção.

Baixo Custo Operacional: Não requer preaquecimento longo do sistema e opera com argônio de pureza comercial (99,99%), dispensando o uso obrigatório de argônio ultra-puro (99,999%) e reduzindo em pelo menos um terço os custos com gás.

Controle Automático e Queima Inteligente: Ignição automatizada por software com um clique e monitoramento de chama por fibra óptica com desligamento de segurança automático em caso de apagam.

Ajuste Bi-dimensional da Tocha: Plataforma móvel motorizada em dois eixos para otimização em tempo real da posição de observação do plasma via software.

Especificações Técnicas

Modelo: ICP 8800

Faixa Espectral: 190 nm a 800 nm (grade de 2400 L/mm)

Resolução Óptica: menor ou igual a 0,005 nm (grade 4320 L/mm)

Faixa de Medição Líquida: 0,01 ppm até milhares de ppm

Faixa de Medição Sólida: 0,001% a 70%

Repetibilidade (RSD Short-term): menor ou igual a 1,5%

Estabilidade (RSD): menor ou igual a 2%

Velocidade de Teste: 5 a 8 elementos por minuto

Frequência RF de Trabalho: 27,12 MHz

Potência de Saída RF: 500W a 1600W ajustável de forma contínua

Sistema de Injeção: Bomba peristáltica de alta precisão com 5 canais e 16 roletes

Controle de Gás: Controladores de Fluxo Massivo (MFC) para gás do plasma, auxiliar e de arraste

Detector: Fotomultiplicador (PMT) de alta sensibilidade (R212 / R928)

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